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高度なセラミック製造のための包括的なソリューション

LTCC、MLCC、および先進セラミック基板の製造向けに、高精度かつ信頼性の高い専用機械と完全な生産ラインを提供します。

LTCC生産設備
LTCC生産ライン

LTCC製造装置:高精度、統合プロセス、複雑な多層セラミック構造に最適。

MLCC製造システム
MLCC製造

MLCC製造装置:卓越した安定性、連続運転が可能で、大量生産向けに設計されています。

セラミック材料とソリューション
材料とソリューション

セラミック材料:高純度、安定した性能、高度な電子機器および熱利用用途における信頼性を追求した設計。

製品展示

インテリジェント製造の卓越性

高精度テープキャスティングマシン

鋳造厚さ
3~300μm
厚さ精度
0.3~1μm

の セラミックテープキャスティングマシンは、3~300μmの膜厚を±1μmの精度で調整可能で、最大6m/分の高速キャスティングと、最大40mのモジュール式乾燥長を実現します。LTCC、HTCC、SOFC基板製造向けに設計されており、PLC制御によるスラリー供給、レーザー/超音波流量モニタリング、CE認証取得済みの安全機能を統合しています。この先進的なテープキャスティング装置は、均一なコーティング、確実な乾燥、そして拡張性の高い性能を保証し、ハイエンド電子セラミック製造に最適です。

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LTCCシートツーシートスクリーン印刷ライン

印刷サイクル
14秒/シート
位置決め精度
±5μm

の LTCCスクリーン印刷機 は、高度な完全自動システムで、 6インチ、8インチ、10インチのLTCCグリーンシート高精度ビジョンアライメント、インテリジェントモーションコントロール、独自開発ソフトウェアを統合し、ビア充填、導体、誘電体印刷に最適な選択肢となっています。 多層セラミック基板(LTCC/HTCC) 製造業。

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LTCCシートツーシートスタッキングマシン

自動スタッキング #
最大100層
スタッキング精度
±5 µm

の LTCCシートツーシートラミネート機 6インチLTCCグリーンシートの精密な積層とラミネーション用に設計されており、製造に広く使用されています。 多層セラミックインダクタ、フィルタ、およびRFコンポーネント。
±5 µmの積層位置合わせ精度、デュアルプレスステーション、および完全自動化されたPETフィルム剥離機能を備えたこの装置は、優れた層間均一性と優れたラミネーション歩留まりを保証し、高度なLTCCおよびHTCC製造ラインに最適です。

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セラミックガラス用高速パンチングマシン

パンチの速度
1800穴/分
パンチの精度
±10μm

の パンチングマシン経由 は、マイクロビアやキャビティのパンチング専用に設計された高速・高精度システムです。 LTCC(低温同時焼成セラミック) 緑色のシート。最先端のサーボ制御、CCDによる画像位置合わせ、そして完全自動化されたローディング/ア​​ンローディングシステムを備えたこの装置は、高度な多層セラミック製造において、優れたパンチング精度とスループットを実現します。

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高精度テープキャスティングマシン
LTCCシートツーシートスクリーン印刷ライン
LTCCシートツーシートスタッキングマシン
セラミックグリーンシート用高速パンチングマシン

MLCC超薄型テープ鋳造機

キャスティング速度
6~60メートル/分
鋳造厚さ
1~30μm

MLCCテープキャスティングマシンは、積層セラミックチップコンデンサ(MLCC)やその他の薄膜セラミック基板の製造に不可欠な装置です。この装置は、セラミックスラリーを基板上に均一に精密に流し込み、厚みが均一で薄く滑らかな膜を形成するように設計されています。テープキャスティングプロセスは、高密度で多層構造のセラミック構造を作製する上で非常に重要であり、高容量、高信頼性、小型化を実現した電子部品の製造に不可欠です。

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MLCCロールツーロールセラミック層積層M...

積層層
最大1000層
積み重ね速度
6秒/サイクル

MLCCロールツーロールスタッキングマシンは、 高精度・高速積層 多層セラミックコンデンサ(MLCC)製造におけるセラミックグリーンテープ。200層後でも±10μmの積層精度と、わずか数秒の超高速積層サイクルを実現。 1サイクルあたり6秒これにより、優れた層間位置合わせ、一貫性、およびスループットが保証されます。統合されたCCDビジョンアライメントと完全自動化された操作により、大規模かつ高歩留まりのMLCC製造ラインに最適です。

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MLCC積層機 - 温間等方圧プレス...

作動圧力
40~200 MPa
内筒径
φ250、φ350 mm

MLCC温間静水圧プレス(WIP)は、積層セラミックチップコンデンサ(MLCC)やその他の先進セラミック基板の製造において重要な装置です。この装置は、熱と静水圧の両方を利用して、未焼成セラミック層を緻密化し、MLCC製造工程における層間の最適な接合を確保します。WIPはあらゆる方向から均一な圧力を加えることで、空隙、亀裂、気泡などの欠陥を除去し、最終的なMLCC製品の電気的特性や機械的特性への悪影響を防ぎます。

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MLCC用4パラメータ試験機

テスト項目
CAP、DF、TV、IR
最高速度
750ユニット/分

MLCC電気性能試験機は、積層セラミックチップコンデンサ(MLCC)の主要な電気特性を正確に測定・評価するために設計されています。高性能MLCCの製造においては、各部品が静電容量(CAP)、誘電正接(DF)、静電容量温度係数(TV)、絶縁抵抗(IR)といった特定の電気性能基準を満たしていることを確認することが不可欠です。これら4つのパラメータは、様々な用途におけるコンデンサの信頼性、効率、および長期性能を評価する上で非常に重要です。

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MLCC超薄型テープ鋳造機
MLCCロールツーロールセラミック積層機
MLCCラミネーションマシン - 温間等方圧プレス
MLCCチップコンデンサ用4パラメータ試験機

アルミナ(Al2O3)セラミックス構造部品...

熱伝導率
20~32 W/(m・K)
曲げ強度
350~380 MPa

アルミナセラミックスは、主に酸化アルミニウム(Al2O3)からなるセラミック材料です。高純度アルミナセラミックスは、99.9%以上のAl2O3を含んでいます。高い焼結温度(1650~1990℃)と1~6μmの透過波長範囲を持つため、従来の金属るつぼに代わる溶融ガラスるつぼの製造に使用できます。透明性とアルカリ金属腐食に対する耐性により、ナトリウムランプ管にも適しています。電子産業では、集積回路の基板や高周波絶縁材料として使用されています。アルミナセラミックスは、優れた熱伝導性、高い機械的強度、および耐熱性を備えています。表面特性から、超音波洗浄が推奨されます。これらの優れた特性により、アルミナセラミックスは様々な産業で幅広く利用されています。

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AlN窒化アルミニウム基板

熱伝導
170~230 W/(m・K)
曲げ強度
300~400 MPa

窒化アルミニウム(AlN)セラミック基板は、高純度窒化アルミニウム粉末から製造される高性能材料であり、その優れた熱特性と機械的特性で広く知られています。優れた熱伝導性により電子機器の効率的な放熱が可能となり、低い熱膨張係数により他の電子部品との互換性が確保され、熱サイクル下でも構造安定性を維持します。AlN基板は、高い硬度、優れた耐熱性・耐摩耗性、そして優れた電気絶縁性も備えているため、要求の厳しい用途においても高い信頼性を発揮します。さらに、精密な穴あけ、フライス加工、切削加工が可能な加工性の高さから、性能、耐久性、熱管理が重要な電子機器、光電子機器、パワーモジュール、LEDデバイス、その他の高度な電子システムなど、幅広い用途で活用できます。

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RFセラミック基板モジュール

RFセラミック基板モジュールは、現代の無線通信システムに不可欠な構成要素です。低温同時焼成セラミック(LTCC)などの先進材料を採用することで、高性能と小型設計を両立させ、次世代電子機器のニーズを満たしています。無線通信、データ伝送、RF電力供給など幅広い用途で利用されているこれらのモジュールは、システムの信頼性と効率性を向上させます。5G-Aや6G技術の台頭に伴い、より高度な集積化、高速伝送、そして優れた熱管理に対する要求はますます高まっています。

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アンテナ - 低温同時焼成セラミック...

LTCCアンテナ(低温同時焼成セラミックアンテナ)は、多層セラミック同時焼成技術を用いて製造される高性能RFコンポーネントです。安定した誘電率、低損失、コンパクトなサイズが特長で、5G通信、衛星測位システム(GNSS)、Wi-Fi、Bluetoothなどの高周波アプリケーションに最適です。セラミック層間に導電回路を組み込むことで、LTCCアンテナは高集積化と三次元回路設計を可能にし、優れた信号安定性と環境信頼性を提供します。スマートデバイス、車載エレクトロニクス、IoT機器などに幅広く使用されています。

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アルミナ(Al2O3)セラミック構造部品
AlN窒化アルミニウム基板
RFセラミック基板モジュール
アンテナ - 低温同時焼成セラミック(LTCC)
先進セラミックソリューション
LTCCおよびMLCC技術
SOFC製造
先進セラミックソリューション

次世代エレクトロニクス向け先進セラミックソリューション

AR/VR、5G通信、車載エレクトロニクス、持続可能なエネルギーシステムなどの最先端アプリケーションを可能にする高性能セラミック基板およびコンポーネント

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ARメガネ用セラミック基板
ARグラス

ARメガネ用セラミック基板

先進的なセラミック基板は、高性能マイクロLEDおよびLCoSディスプレイに優れた熱管理性と機械的安定性を提供します。その精密さにより、コンパクトで熱的に厳しい環境下でも、光学エンジンの安定した位置合わせと信頼性の高い動作が保証されます。

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RFモジュール向けLTCCソリューション
RFモジュール

高周波・RFモジュール用LTCC

LTCC技術は、極めて低い誘電損失と安定した誘電特性を備えているため、高周波およびミリ波通信システムに最適です。5G、Wi-Fi、Bluetooth、ミリ波モジュールにおいて、RFフィルタ、アンテナ、フロントエンドモジュールなどに広く採用されています。

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車載電子機器用MLCC
自動車用電子機器

車載エレクトロニクスおよびADAS向けMLCC

MLCC(積層セラミックコンデンサ)は、車両の電動化において重要な役割を果たし、次世代車載エレクトロニクス向けに安定した高周波性能を提供します。ECU、ADAS(先進運転支援システム)のレーダーおよびカメラモジュール、バッテリー管理システム(BMS)などに使用され、信号の完全性、ノイズ抑制、電力安定性を確保します。

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SOFC製造プロセス
SOFC

SOFC製造プロセス

SOFCの製造工程は、構造的な耐久性と長期的な電気化学的性能を確保するために、厳密に管理された多段階のワークフローに従って行われます。このプロセスには、精密なスラリー調製、テープキャスティング、スクリーン印刷、および共焼成が含まれ、効率的な発電のために最適なイオン伝導率と気密性を実現します。

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先進セラミックソリューションショーケース

セラミック技術の主要な応用分野は4つあります。ARガラス用セラミック基板、高周波RFモジュール用LTCC、車載エレクトロニクス用MLCC、そしてSOFC製造プロセスです。

65+
プロジェクト
128+
装置
配達
27+
グローバル
顧客
1M平方メートル+
セラミック材料
配達済み

セラミック製造設備およびソリューション

LTCCおよびMLCC生産ライン全体にわたる高度なセラミック部品製造のための専用機械およびシステム

セラミック製造設備

LTCCおよびMLCC製造プロセス用の特殊機械。真空脱気槽、テープキャスティングマシン、スクリーン印刷装置、焼結炉、品質検査システムなど。

LTCC生産ラインソリューション
均一で拡張性の高いセラミック製造を実現する、高精度・自動化LTCCライン。
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MLCC生産ラインソリューション
高精度、高スループット、高信頼性のコンデンサ生産を実現する自動化MLCCライン。
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高度なセラミック製造のための包括的なソリューション(1)
/ 会社概要 /

私たちについて

当社は、高度な設備、AIを活用したプロセス制御、リアルタイム監視を組み合わせた、完全ターンキー方式の生産ラインを提供し、高効率で無人運転の工場を構築します。当社のソリューションは、生産性の向上、精度の確保、そして信頼性と拡張性に優れた製造を実現します。

すべての機器はISO 9001認証を取得しており、世界的なCE規格および安全基準を満たしているため、精度、耐久性、安定した性能が保証されています。

当社は、インテリジェントな制御、高精度な機構、そしてデータに基づいたプロセス最適化によって、セラミック製造の発展を推進しています。

私たちは、環境に配慮した生産、エネルギー効率の向上、そして人材育成に尽力し、よりスマートでクリーン、そして持続可能な未来を創造します。

持続可能で高性能な技術によって電子セラミックス産業の発展を支え、インテリジェントなセラミック製造ソリューションにおけるグローバルリーダーとなることを目指します。

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